|
Кількість
|
Вартість
|
||
|
|
|||
Acwell Licorice pH Balancing Cleansing Toner — легендарний тонік із лакрицею, який одночасно очищує, заспокоює та відновлює баланс pH шкіри. Його формула з низьким pH (5.5) м’яко видаляє залишки забруднень і себуму, не пересушуючи навіть чутливу шкіру. Завдяки комплексу амінокислот і екстрактів рослин, тонік вирівнює тон, надає здорового сяйва та підтримує зволоження після вмивання.
Основні переваги
-
М’яке очищення без подразнень. Лакриця, зелений чай і троянда делікатно видаляють залишки макіяжу та себуму, не порушуючи бар’єр.
-
Вирівнює тон і надає сяйва. Екстракт кореня лакриці освітлює шкіру, зменшує тьмяність і почервоніння.
-
Відновлює pH-баланс. Після очищення шкіра повертає свій природний рівень кислотності (pH 5.5), що зменшує подразнення й сухість.
-
Заспокоює та зволожує. Гліцерин, зелений чай і екстракти рослин забезпечують шкірі м’якість і комфорт.
-
Підходить для щоденного використання. Використовуйте як ранковий тонік, легкий очищувач або “тонер-детокс” після макіяжу.
Активні компоненти
-
Licorice Root Water & Extract — природне джерело гліциризинової кислоти, зменшує запалення, подразнення та пігментацію, вирівнює тон шкіри.
-
Green Tea & Guava Leaf Extracts — антиоксиданти, що нейтралізують вільні радикали та контролюють себум.
-
Rose Flower Extract — надає тонусу, покращує мікроциркуляцію і м’яко освіжає шкіру.
-
Perilla Seed & Poncirus Trifoliata Fruit Extracts — зміцнюють шкірний бар’єр і мають протизапальну дію.
-
Vitamin E (Tocopheryl Acetate) — антиоксидант, який захищає клітини від окисного стресу та додає шкірі сяйва.
-
Амінокислотний комплекс — підтримує природне зволоження та еластичність шкіри.
Спосіб застосування
Змочіть ватний диск або долоні тоніком і протріть шкіру обличчя після очищення. Можна використовувати як ранковий тонік, легкий очищувальний етап після SPF або наприкінці дня для видалення залишків макіяжу.
Кому підходить
Для всіх типів шкіри, включаючи чутливу. Особливо підходить при тьмяності, почервонінні, нерівному тоні та порушеному pH після агресивного очищення.
